一、 概述：

CEW-4000型半軸專用交直流熒光磁粉探傷♀機系機電組合型半自動磁粉探傷設備，由電源控七十五億制系統、夾持磁化裝置、磁懸液系統等幾大部分組成，適用於以濕式磁粉∮法檢測由鐵磁性材料制成的軸、管、棒類零件的表面㊣及近表面因鑄造、鍛造、加工、疲勞等竟然緩緩被他一點一點各種原因引起的裂紋和各種細微缺陷。

    本△設備采用手動、自動←兩種運行方式，由可編程控制器（OMRON PLC）集中控制。手動時，可進行每個功能的單步獨立操作；自動時，設備自動執嗡行PLC內部程序，工件上料到位夾＠緊後，按啟動按鈕，可實現工件的噴淋—轉動—充磁等一＠ 系列動作。手動退磁後松開工件。周向磁化采用直接通電，縱向磁化采用兩組異形結構的線圈，具有今天良好的磁化效果。復↘合磁化在工件上形成旋轉磁場，一次性全方位顯示沒有任何勢力磁跡，具有較高的工〇作效率。

二、 主要技術參數：

2.1、磁化方式：周向、縱向、復合三◣種磁化方式；

2.2、周向磁化▃電流：AC 0-4000A有效值，連續可調；

2.3、縱向磁冷冷一笑化磁勢：AC 0-18000AT有效值，連續可調，

DC 0-18000AT平均值（半波兩倍於平均值），連續可調；

2.4、周向退磁電流：AC 4000-0A有效值，連續可調；

2.5、縱向交流退磁磁勢：AC 18000-0AT有效值，連續可調；

2.6、交流磁化後退磁效果：≤0.3mT；

2.7、電極間距：0-1250mm（電動可調）；

2.8、暫載率：≥25%；

2.9、夾持方式：氣動夾緊；

2.10、運行方式：手動/自動；

2.11、探傷靈敏度一條通道啊不由急速飛奔了起來：15/50A1型試片清晰顯『示；

2.12、探傷節拍：約15秒/件(上下料及觀察時間除外，探傷時間和工藝過程可根據需方實際需要，程序可調整)；

2.13、電源：三相四線 380V±5%  50Hz  250A；

2.14、暗房尺寸: 3400mm (L)×2100mm (W)×2250mm (H)

探傷機尺︼寸：2700mm (L)×1000mm (W)×1500mm (H)（含噴淋架高度），

2.15、使用環境：溫度-5℃+40℃，相對濕度≤80%，無腐蝕〓氣體、粉塵及中高這黑甲蠍和修真界之中頻幹擾；

2.16、重量：約1300Kg。