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CEW-4000 | |
![]() ![]() ![]() ![]() 一、 概述: CEW-4000型半軸專用交直流熒光磁粉探傷♀機系機電組合型半自動磁粉探傷設備,由電源控七十五億制系統、夾持磁化裝置、磁懸液系統等幾大部分組成,適用於以濕式磁粉∮法檢測由鐵磁性材料制成的軸、管、棒類零件的表面㊣及近表面因鑄造、鍛造、加工、疲勞等竟然緩緩被他一點一點各種原因引起的裂紋和各種細微缺陷。 本△設備采用手動、自動←兩種運行方式,由可編程控制器(OMRON PLC)集中控制。手動時,可進行每個功能的單步獨立操作;自動時,設備自動執嗡行PLC內部程序,工件上料到位夾@緊後,按啟動按鈕,可實現工件的噴淋—轉動—充磁等一@ 系列動作。手動退磁後松開工件。周向磁化采用直接通電,縱向磁化采用兩組異形結構的線圈,具有今天良好的磁化效果。復↘合磁化在工件上形成旋轉磁場,一次性全方位顯示沒有任何勢力磁跡,具有較高的工〇作效率。 二、 主要技術參數: 2.1、磁化方式:周向、縱向、復合三◣種磁化方式; 2.2、周向磁化▃電流:AC 0-4000A有效值,連續可調; 2.3、縱向磁冷冷一笑化磁勢:AC 0-18000AT有效值,連續可調, DC 0-18000AT平均值(半波兩倍於平均值),連續可調; 2.4、周向退磁電流:AC 4000-0A有效值,連續可調; 2.5、縱向交流退磁磁勢:AC 18000-0AT有效值,連續可調; 2.6、交流磁化後退磁效果:≤0.3mT; 2.7、電極間距:0-1250mm(電動可調); 2.8、暫載率:≥25%; 2.9、夾持方式:氣動夾緊; 2.10、運行方式:手動/自動; 2.11、探傷靈敏度一條通道啊不由急速飛奔了起來:15/50A1型試片清晰顯『示; 2.12、探傷節拍:約15秒/件(上下料及觀察時間除外,探傷時間和工藝過程可根據需方實際需要,程序可調整); 2.13、電源:三相四線 380V±5% 50Hz 250A; 2.14、暗房尺寸: 3400mm (L)×2100mm (W)×2250mm (H) 探傷機尺︼寸:2700mm (L)×1000mm (W)×1500mm (H)(含噴淋架高度), 2.15、使用環境:溫度-5℃+40℃,相對濕度≤80%,無腐蝕〓氣體、粉塵及中高這黑甲蠍和修真界之中頻幹擾; 2.16、重量:約1300Kg。 |
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